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- Beanie aus Strukturstrick mit Druck

Produktdetails

Produktinformationen "- Beanie aus Strukturstrick mit Druck"

Mütze aus feinem Interlock mit leicht strukturierter Oberfläche. Dezenter Ton-in-Ton Allover-Druck mit Wald-Motiv. Mit Kante zum Umklappen. Fähnchen an der Kante. Made In Portugal. Waschbar bei 30°C.

Material

Materialzusammensetzung: 100% Baumwolle (kbA)
Zertifikate: GOTS